Acid-catalyzed positive photoresist compositions which are imageable with 193 nm radiation and are developable to form photoresist structures of high resolution and high etch resistance are enabled by the use of a combination of cyclic olefin polymer, photosensitive acid generator and a hydrophobic non-steroidal multi-alicyclic component containing plural acid labile linking groups. The cyclic olefin polymers preferably contain i) cyclic olefin units having polar functional moieties, ii) cyclic olefin units having acid labile moieties that inhibit solubility in aqueous alkaline solutions.

De zuur-gekatalyseerde positieve photoresist samenstellingen die imageable met 193 NM- stralings zijn en ontwikkelbaar zijn om photoresist structuren van hoge resolutie te vormen en hoog weerstand te etsen worden toegelaten door middel van een combinatie van cyclische olefin polymeer, fotogevoelige zure generator en een hydrophobic niet steroidal multi-alicyclische component die groepen van de meervouds de zure labiele aaneenschakeling bevat. De cyclische olefin polymeren bevatten cyclische olefin i) bij voorkeur eenheden die polaire functionele delen hebben, cyclische olefin ii) eenheden die zure labiele delen hebben die oplosbaarheid in waterige alkalische oplossingen remmen.