A micro-electro-mechanical-system (MEMS) mirror device and methods for fabricating the same allow for a large range of angular motion for a center mirror component. The large range of angular motion for a center mirror component is dictated simply by a thickness of a substrate used or a thickness of a thick film used in making a support structure to support the center mirror component. The MEMS mirror device and methods for fabricating the same allow a large number mirror devices to be fabricated on a substrate. The MEMS mirror device includes a substrate. Electrodes are formed supported by the substrate. A support structure is formed adjacent to the electrodes. A hinge pattern and a mirror pattern having a center mirror component are formed such that the support structure supports the hinge pattern and mirror pattern. The support structure also supports the hinge pattern and mirror pattern such that a bottom surface of the center mirror component in a stationary non-rotating position is capable of exceeding a height of 50 .mu.m above the electrodes.

Eine Mikro--electro-mechanisch-System (MEMS) Spiegelvorrichtung und -methoden für das Fabrizieren dasselbe lassen eine große Strecke der eckigen Bewegung für einen Mittelspiegelbestandteil zu. Die große Strecke der eckigen Bewegung für einen Mittelspiegelbestandteil wird einfach durch eine Stärke eines Substrates vorgeschrieben, das benutzt wird oder eine Stärke eines Dickfilms, der wenn man eine Unterstützungsstruktur den Mittelspiegelbestandteil stützen läßt benutzt wird. Die MEMS Spiegelvorrichtung und -methoden für das Fabrizieren dasselbe erlauben, daß Vorrichtungen eines große Zahlspiegels auf einem Substrat fabriziert werden. Die MEMS Spiegelvorrichtung schließt ein Substrat mit ein. Elektroden werden sich stützten durch das Substrat gebildet. Eine Unterstützungsstruktur wird neben den Elektroden gebildet. Einem Scharniermuster und einem Spiegelmuster, die einen Mittelspiegelbestandteil haben, werden so gebildet, daß die Unterstützungsstruktur das Scharniermuster und Spiegelmuster stützt. Die Unterstützungsstruktur stützt auch das Scharniermuster und Spiegelmuster so, daß eine Grundfläche des Mittelspiegelbestandteils in einer stationären nicht-drehenden Position zum Übersteigen einer Höhe von mu.m 50 über den Elektroden fähig ist.