A laser beam emitted from an exposure laser beam source has a uniform illuminance distribution after passing through a fly-eye lens selected according to the aperture stop. The exposure light is projected onto a reticle on which a predetermined pattern is formed, and the reticle pattern is projected onto a wafer by means of a projection optical system having a pupil filter inserted therein. A cleaning light beam branching off from the exposure light beam is projected through a beam splitter and a total reflection mirror onto the fly-eye lens located at a retraction position. A plane-parallel plate at the retraction position is irradiated with a cleaning light beam. The fly-eye lens and the plane-parallel plate are self-cleansed by the cleaning light beam, so that the transmissivity is kept higher than a predetermined value during standby.

Un fascio laser emesso da una fonte del fascio laser di esposizione ha una distribuzione di illuminamento dell'uniforme dopo avere passato tramite un obiettivo dell'vol-occhio selezionato secondo l'arresto dell'apertura. La luce di esposizione è proiettata su un reticolo su cui un modello predeterminato è formato ed il modello del reticolo è proiettato su una cialda per mezzo di un sistema ottico della proiezione che fa un filtro della pupilla inserire in ciò. Un raggio di luce di pulizia che si ramifica fuori dal raggio di luce di esposizione è proiettato tramite un divisore di fascio e uno specchio totale di riflessione sull'obiettivo dell'vol-occhio situato ad una posizione di ritrazione. Una piastra aereo-parallela alla posizione di ritrazione è irradiata con un raggio di luce di pulizia. L'obiettivo dell'vol-occhio e la piastra aereo-parallela auto-sono puliti dal raggio di luce di pulizia, di modo che la trasmettività è mantenuta superiore ad un valore predeterminato durante lo standby.