A structure and a method for a stitched write head having a sunken share pole. The method includes forming a bottom coil dielectric layer over the first half shared pole. Coils are formed over the bottom coil dielectric layer. Next, second half shared poles (P1) are formed over the first half shared pole (S2). We form a top coil dielectric layer over the structure. In a key step, we chemical-mechanical polish the top coil dielectric layer. A write gap layer (WG) is formed over the front second half shared pole and the top coil dielectric layer over the coils. An upper pole (P3) and hard mask are formed over the write gap layer. We etch the write gap layer and the second half shared pole (P1) using the upper pole as an etch mask to remove a portion of the second half shared pole (P1) adjacent to the write gap layer thereby forming a partially trimmed pole.

Een structuur en een methode voor gestikt schrijven hoofd dat een gedaalde aandeelpool heeft. De methode omvat het vormen van een diëlektrische laag van de bodemrol over de eerste de helft gedeelde pool. De rollen worden gevormd meer dan de diëlektrische laag van de bodemrol. Daarna, de tweede worden helft gedeelde polen (P1) gevormd over eerste de helft gedeelde pool (S2). Wij vormen een hoogste rol diëlektrische laag over de structuur. In een zeer belangrijke stap, wij chemisch-mechanisch poetsmiddel de hoogste rol diëlektrische laag. Schrijf de hiaatlaag (WG) meer dan de voor de tweede helft gedeelde pool en de hoogste rol diëlektrische laag over de rollen wordt gevormd. Een hogere pool (P3) en het harde masker worden gevormd over schrijven hiaatlaag. Wij etsen schrijven hiaatlaag en de tweede helft gedeelde pool (P1) die de hogere pool gebruikt aangezien masker ets om een gedeelte van de tweede helft gedeelde pool (P1) naast te verwijderen schrijft hiaatlaag die daardoor een gedeeltelijk in orde gemaakte pool vormt.