Processes for coating three dimensional inorganic substrates, with shielded surfaces, with metal oxide-containing coatings are disclosed. Such processes comprise contacting a substrate with a powder metal oxide precursor formed reactant mixture at fast reaction and elevated temperature reaction conditions to form a substrate containing metal oxide on at least a portion of the three dimensions and shielded surfaces of the substrate. Also disclosed are substrates coated with metal oxide-containing coatings for use in various applications including catalysis, shielding, electrostatic dissipation and battery applications.

Los procesos para cubrir los substratos inorgánicos tridimensionales, con las superficies blindadas, con las capas o'xido-que contienen del metal se divulgan. Tales procesos abarcan entrar en contacto con un substrato con una mezcla formada precursor el reactivo del óxido de metal del polvo en la reacción rápida y las condiciones elevadas de la reacción de la temperatura para formar un substrato que contiene el óxido de metal en por lo menos una porción de las tres dimensiones y de las superficies blindadas del substrato. También se divulgan los substratos cubiertos con las capas o'xido-que contienen del metal para el uso en varios usos incluyendo la disipación de la catálisis, el blindar, electrostáticos y los usos de la batería.

 
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> Process for producing thin film metal oxide coated substrates

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