Generally, a method of determining a position of a robot is provided. In one embodiment, a method of determining a position of a robot comprises acquiring a first set of positional metrics, acquiring a second set of positional metrics and resolving the position of the robot due to thermal expansion using the first set and the second set of positional metrics. Acquiring the first and second set of positional metrics may occur at the same location within a processing system, or may occur at different locations. For example, in another embodiment, the method may comprise acquiring a first set of positional metrics at a first location proximate a processing chamber and acquiring a second set of positional metrics in another location. In another embodiment, substrate center information is corrected using the determined position of the robot.

Over het algemeen, wordt een methode om een positie van een robot te bepalen verstrekt. In één belichaming, bestaat een methode om een positie van een robot te bepalen uit het verwerven van een eerste reeks positionele metriek, het verwerven van een tweede reeks positionele metriek en het oplossen van de positie van de robot toe te schrijven aan thermische uitbreiding gebruikend de eerste reeks en de tweede reeks positionele metriek. Het verwerven van de eerste en tweede reeks positionele metriek kan bij de zelfde plaats binnen een verwerkingssysteem voorkomen, of kan bij verschillende plaatsen voorkomen. Bijvoorbeeld, in een andere belichaming, kan de methode uit het verwerven van een eerste reeks positionele metriek bij een eerste naburige plaats een verwerkingskamer en het verwerven van een tweede reeks positionele metriek in een andere plaats bestaan. In een andere belichaming, wordt de informatie van het substraatcentrum verbeterd gebruikend de bepaalde positie van de robot.