The invention relates to a method for the specific photolytic deprotection of nucleoside derivatives that are immobilized on a substrate, especially for use in the production of DNA chips. Said method is characterized in that a gel or viscous liquid layer is applied on the nucleoside derivatives that are immobilized on a substrate. Said gel or viscous liquid contains one or more polymer compounds and at least one representative from the group comprising water, water/C.sub.1 -C.sub.4 alcohol mixtures and polar aprotic solvents. For initiating the deprotection, the nucleoside derivates are irradiated. This method favors a rapid, clean and complete removal of the photolabile protective groups from the nucleoside derivatives, which results in the required purity of the synthesized nucleotide or oligonucleotide sequences.

L'invention concerne une méthode pour le deprotection photolytic spécifique des dérivés de nucléoside qui sont immobilisés sur un substrat, particulièrement pour l'usage dans la production des morceaux d'ADN. Ladite méthode est caractérisée parce qu'un gel ou une couche liquide visqueuse est appliqué sur les dérivés de nucléoside qui sont immobilisés sur un substrat. Ledit gel ou liquide visqueux contient un ou plusieurs composés de polymère et au moins un représentant du groupe comportant l'eau, water/C.sub.1 - mélanges de l'alcool C.sub.4 et dissolvants aprotic polaires. Pour lancer le deprotection, les dérivés de nucléoside sont irradiés. Cette méthode favorise un déplacement rapide, propre et complet des groupes protecteurs photolabile des dérivés de nucléoside, qui a comme conséquence la pureté exigée des ordres synthétisés de nucléotide ou d'oligonucléotide.