An integrated apparatus for processing a resist pattern imaged on a substrate, notably a thermal lithographic printing plate, comprises a chemical development section, and a preheat oven upstream of the chemical development section. The preheat oven is controllable to provide for substantially uniform heating of the imaged lithographic plate (or other imaged resist pattern on the substrate) as the plate progresses through the apparatus. If desired a plate baking oven may be provided downstream of the chemical development section.

Um instrumento integrado para processar um teste padrão resistir imaged em uma carcaça, notàvelmente uma placa imprimindo lithographic térmica, compreende uma seção química do desenvolvimento, e um forno pré-aquecer rio acima da seção química do desenvolvimento. O forno pré-aquecer é controllable fornecer para o heating substancialmente uniforme da placa lithographic imaged (ou do outro imaged resista o teste padrão na carcaça) como a placa progride através do instrumento. Se desejado um forno do baking da placa pode ser fornecido rio abaixo da seção química do desenvolvimento.