A pellicle for a photolithographic patterning process by means of a light having a wavelength of at most 200 nm, comprising a frame and a pellicle membrane bonded to the frame by means of an adhesive, wherein the pellicle membrane or the adhesive comprises the following fluorine-containing polymer (A): fluorine-containing polymer (A): a substantially linear fluorine-containing polymer having a chain of carbon atoms as the main chain, and containing as carbon atoms in its main chain, a carbon atom having one or two hydrogen atoms bonded thereto and a carbon atom having no hydrogen atom bonded thereto and having a fluorine atom or a fluorine-containing organic group bonded thereto.

Pellicle для photolithographic делая по образцу процесса посредством света имея длину волны на большой части 200 nm, состоящ из рамки и мембраны pellicle скрепленных к рамке посредством прилипателя, при котором мембрана pellicle или прилипатель состоят из following fluorine-containing полимера (a): fluorine-containing полимер (a): существенн линейный fluorine-containing полимер имея цепь атомов углерода как главная цепь, и содержа как атомы углерода в своей главной цепи, атоме углерода имея один или два миллиона атом водопода быть скрепленным к тому и атоме углерода не имея никакой атом водопода быть скрепленным к тому и имея атом фтора или fluorine-containing органическую группу быть скрепленным к тому.