Disclosed is a method for producing an acid sensitive liquid composition. The method involves passing an acid sensitive liquid composition containing a carbonate represented by the formula ROC(.dbd.O)OR.sup.1 wherein R and R.sup.1 independently are a hydrocarbyl group of 1 to about 10 carbon atoms, through at least one of the following two filter sheets: (a) a filter sheet containing a self-supporting fibrous matrix having immobilized therein a particulate filter aid and a particulate ion exchange resin having an average particle size of from about 2 to about 10 microns, wherein the particulate filter aid and ion exchange resin particles are distributed substantially uniformly throughout a cross-section of said matrix; and/or (b) a filter sheet containing a self-supporting matrix of fibers having immobilized therein particulate filter aid and binder resin, and having an average pore size of about 0.05 to 0.5 .mu.m. Also disclosed is a method for treating a film of a photoresist composition disposed on a surface, which involves contacting the photoresist composition with an acid sensitive liquid composition prepared by the aforementioned method, in an amount sufficient to produce a substantially uniform film thickness of the photoresist composition across the film surface.

É divulgado um método para produzir uma composição líquida sensível ácida. O método envolve passar uma composição líquida sensível ácida que contem um carbonato representado pela fórmula ROC(.dbd.O)OR.sup.1 wherein R e R.sup.1 são independentemente um grupo do hydrocarbyl de 1 a aproximadamente 10 átomos de carbono, com ao menos uma das seguintes duas folhas do filtro: (a) uma folha do filtro que contem uma matriz fibrous self-supporting que immobilized nisso um dae (dispositivo automático de entrada) particulate do filtro e uma resina particulate da troca de íon que têm um tamanho de partícula médio de aproximadamente 2 a aproximadamente 10 mícrons, wherein as partículas particulate da resina da troca do dae (dispositivo automático de entrada) e de íon do filtro são distribuídas substancialmente uniformemente durante todo um cross-section de matriz dita; e/ou (b) uma folha do filtro que contem uma matriz self-supporting das fibras que immobilized nisso o dae (dispositivo automático de entrada) do filtro e a resina particulate da pasta, e tendo um tamanho médio do pore de aproximadamente 0.05 a 0.5 mu.m. É divulgado também um método para tratar uma película de uma composição do photoresist disposta em uma superfície, que envolva contatar a composição do photoresist com uma composição líquida sensível ácida preparada pelo método acima mencionado, em uma quantidade suficiente produzir uma espessura de película substancialmente uniforme da composição do photoresist através da superfície da película.