An abrasive particle detention system includes a fluid circulation system, a probe assembly, a monitoring circuit, and an operator indicator. The probe assembly includes an orifice from which a stream of fluid emerges, and a probe having a face upon which the stream at least partially impinges. The probe face includes an insulative substrate and a conductive film formed on the substrate. Abrasive particles in the fluid stream abrade the conductive film, changing its electrical resistance. A monitoring circuit is utilized to observe these changes, and when they correspondence to a concentration above a pre-selected level, an operation indicator is triggered. The system may include an electronic controller coupled to the monitoring circuit, which can account for variables such as temperature, viscosity, and/or pressure in the fluid circulation system.

Un système abrasif de détention de particules inclut un système liquide de circulation, une sonde, un circuit de surveillance, et un indicateur d'opérateur. La sonde inclut un orifice dont un jet de fluide émerge, et une sonde ayant un visage sur lequel le jet empiète au moins partiellement. Le visage de sonde inclut un substrat insulative et un film conducteur formés sur le substrat. Les particules abrasives dans le jet liquide rodent le film conducteur, changeant son résistance électrique. Un circuit de surveillance est utilisé pour observer ces changements, et quand ils correspondance à une concentration au-dessus d'un niveau pré-sélectionné, un indicateur d'opération est déclenchés. Le système peut inclure un contrôleur électronique couplé au circuit de surveillance, qui peut expliquer des variables telles que la température, la viscosité, et/ou la pression dans le système liquide de circulation.