An polishing apparatus consists of a piston which is fixed to the rotation axis, a ceramic plate which is oppositely arranged against the piston via a silicone gel, and a cylinder which houses these components. The wafer is attached on the bottom surface of a backing pad, and will be pressed and rotated by the piston in order to polish the surface thereof.

Ein Polierapparat besteht aus einem Kolben, der an der Drehachse, an einer keramischen Platte, die gegenüber gegen den Kolben über ein Silikongel geordnet wird und an einem Zylinder befestigt wird, der diese Bestandteile unterbringt. Die Oblate wird auf der Grundfläche einer Schutzträgerauflage angebracht und wird durch den Kolben betätigt werden und gedreht, um die Oberfläche davon zu polieren.