A photomask designing method and apparatus, a computer readable storing medium, a photomask, a photoresist, a photosensitive resin, a base plate, a microlens, and an optical element. In the method, even though a desired depth of a photoresist pattern and a type of the photoresist are changed, the photomask can be easily designed. In a method of designing a photomask in which intensity of light radiated onto the photoresist is controlled with a fine pattern, that is, a congregation of fine areas respectively having predetermined light transmission factor, the resist sensitivity curve showing resist depth for the exposing amount of the employed photoresist and fine areas data corresponding to plural light transmission factors per determined halftone are previously set, and then, the depth of the resist respectively set per each of the fine areas is converted to the light exposing amount by use of the resist sensitivity curve. The converted exposing amount is further converted to the light transmission factor. The light transmission factor is replaced by the fine areas data. In such a way, a concrete fine pattern can be created.

Un metodo di progettazione del photomask e un apparecchio, un mezzo immagazzinante leggibile dall'elaboratore, un photomask, un photoresist, una resina fotosensibile, una base di appoggio, microlens e un elemento ottico. Nel metodo, anche se una profondità voluta di un modello del photoresist e un tipo del photoresist sono cambiati, il photomask può essere progettato facilmente. In un metodo di progettazione del photomask in cui l'intensità di luce irradiata sul photoresist è controllata con un modello fine, cioè, un congregation delle zone fini che predeterminano rispettivamente il fattore della trasmissione della luce, la rappresentazione della curva di sensibilità di resistenza resiste alla profondità per la quantità esponente del photoresist impiegato ed i dati fini di zone che corrispondono ai fattori plurali della trasmissione della luce per il semitono risoluto precedentemente sono regolati ed allora, la profondità della resistenza regolata rispettivamente per ciascuna delle zone fini è convertita in importo esponente chiaro per mezzo della curva di sensibilità di resistenza. L'importo esponente convertito più ulteriormente è convertito in fattore della trasmissione della luce. Il fattore della trasmissione della luce è sostituito dai dati fini di zone. In tale maniera, un modello fine concreto può essere generato.