A silica glass has a structure determination temperature of 1200 K or lower and an OH group concentration of at least 1,000 ppm. The silica glass is used for photolithography together with light in a wavelength region of 400 nm or shorter.

Un cristal de la silicona tiene una temperatura de la determinación de la estructura de K 1200 o baja y una concentración del grupo del OH por lo menos de 1.000 PPM. El cristal de la silicona se utiliza para la fotolitografía junto con luz en una región de la longitud de onda de 400 nm o más corto.