Layout correction is accomplished using a forward mapping technique. Forward mapping refers to mapping of fragments from a reticle to a target layout, while backward mapping refers to mapping of fragments from the target layout to the reticle. Forward mapping provides a technique for making an unambiguous mapping for each reticle fragment to a corresponding target layout fragment. The mapping does not necessarily provide a one-to-one correspondence between reticle fragments and target layout fragments. That is, multiple reticle fragments can map to a single target layout fragment. An edge placement error for the target layout fragments is used to make positioning corrections for the corresponding reticle fragment(s). Edge placement error can be determined, for example, with a simulation process that simulates a manufacturing process using the reticles.

Η διόρθωση σχεδιαγράμματος ολοκληρώνεται χρησιμοποιώντας μια μπροστινή τεχνική χαρτογράφησης. Η μπροστινή χαρτογράφηση αναφέρεται στη χαρτογράφηση των τεμαχίων από ένα σταυρόνημα σε ένα σχεδιάγραμμα στόχων, ενώ οπίσθια χαρτογράφηση αναφέρεται στη χαρτογράφηση των τεμαχίων από το σχεδιάγραμμα στόχων στο σταυρόνημα. Η μπροστινή χαρτογράφηση παρέχει μια τεχνική για μια σαφή χαρτογράφηση για κάθε τεμάχιο σταυρονημάτων σε ένα αντίστοιχο τεμάχιο σχεδιαγράμματος στόχων. Η χαρτογράφηση δεν παρέχει απαραιτήτως μια ένα προς ένα αλληλογραφία μεταξύ των τεμαχίων σταυρονημάτων και των τεμαχίων σχεδιαγράμματος στόχων. Δηλαδή τα πολλαπλάσια τεμάχια σταυρονημάτων μπορούν να χαρτογραφήσουν σε ένα ενιαίο τεμάχιο σχεδιαγράμματος στόχων. Ένα λάθος τοποθέτησης ακρών για τα τεμάχια σχεδιαγράμματος στόχων χρησιμοποιείται για να κάνει τις τοποθετώντας διορθώσεις για το αντίστοιχο τεμάχιο σταυρονημάτων (σ). Το λάθος τοποθέτησης ακρών μπορεί να καθοριστεί, παραδείγματος χάριν, με μια διαδικασία προσομοίωσης που μιμείται μια διαδικασία κατασκευής χρησιμοποιώντας τα σταυρονήματα.