Within a method for forming an image array optoelectronic microelectronic fabrication there is first provided a substrate. There is then formed at least in part over the substrate a bidirectional array of image array optoelectronic microelectronic pixel elements comprising a plurality of series of patterned color filter layers corresponding with a plurality of colors. Within the method, at least one series of patterned color filter layers within the plurality of series of patterned color filter layers corresponding with at least one color within the plurality of colors is formed employing a photolithographic method which employs a plurality of separate photoexposure steps for forming a plurality of separate sub-series of patterned color filter layers within the series of patterned color filter layers corresponding with the at least one color within the plurality of colors. By employing the plurality of separate photoexposure steps for forming the plurality of separate sub-series of patterned color filter layers within the series of patterned color filter layers corresponding with the at least one color within the plurality of colors, the image array optoelectronic microelectronic fabrication is formed with enhanced resolution.

Μέσα σε μια μέθοδο για μια οπτικοηλεκτρονική μικροηλεκτρονική επεξεργασία σειράς εικόνας παρέχεται αρχικά ένα υπόστρωμα. Διαμορφώνεται έπειτα τουλάχιστον εν μέρει πέρα από το υπόστρωμα μια αμφίδρομη σειρά οπτικοηλεκτρονικών μικροηλεκτρονικών στοιχείων εικονοκυττάρου σειράς εικόνας περιλαμβάνοντας μια πολλαπλότητα της σειράς διαμορφωμένων στρωμάτων φίλτρων χρώματος που αντιστοιχούν με μια πολλαπλότητα των χρωμάτων. Μέσα στη μέθοδο, τουλάχιστον μια σειρά διαμορφωμένων στρωμάτων φίλτρων χρώματος μέσα στην πολλαπλότητα της σειράς διαμορφωμένων στρωμάτων φίλτρων χρώματος που αντιστοιχούν με τουλάχιστον ένα χρώμα μέσα στην πολλαπλότητα των χρωμάτων διαμορφώνεται υιοθετώντας μια φωτολιθογραφική μέθοδο που υιοθετεί μια πολλαπλότητα των χωριστών βημάτων photoexposure για τη διαμόρφωση μιας πολλαπλότητας των χωριστών υπο--σειρών διαμορφωμένων στρωμάτων φίλτρων χρώματος μέσα στη σειρά διαμορφωμένων στρωμάτων φίλτρων χρώματος που αντιστοιχούν με το τουλάχιστον ένα χρώμα μέσα στην πολλαπλότητα των χρωμάτων. Με την υιοθέτηση της πολλαπλότητας των χωριστών βημάτων photoexposure για τη διαμόρφωση της πολλαπλότητας των χωριστών υπο--σειρών διαμορφωμένων στρωμάτων φίλτρων χρώματος μέσα στη σειρά διαμορφωμένων στρωμάτων φίλτρων χρώματος που αντιστοιχούν με το τουλάχιστον ένα χρώμα μέσα στην πολλαπλότητα των χρωμάτων, η οπτικοηλεκτρονική μικροηλεκτρονική επεξεργασία σειράς εικόνας διαμορφώνεται με το ενισχυμένο ψήφισμα.