Processes for patterning radiation sensitive layers are disclosed. In one embodiment, the process includes depositing a radiation sensitive material on a substrate by chemical vapor deposition. The radiation sensitive material is exposed to radiation to form a pattern and the pattern is developed using a supercritical fluid (SCF).

Des processus pour modeler des couches sensibles de rayonnement sont révélés. Dans une incorporation, le processus inclut déposer un matériel sensible de rayonnement sur un substrat par la déposition en phase vapeur. Le matériel sensible de rayonnement est exposé au rayonnement pour former un modèle et le modèle est développé en utilisant un fluide supercritique (SCF).