A method for forming metallic nanoclusters upon a substrate includes moving the substrate through a deposition chamber at a predetermined uniform velocity and depositing metallic precursor compounds onto the substrate. The metallic precursor compounds are subsequently bombarded with an ultrasonic jet of atomic hydrogen to form the metallic nanoclusters.

Eine Methode für die Formung der metallischen nanoclusters nach einem Substrat schließt das Verschieben des Substrates durch einen Absetzungraum an einer vorbestimmten konstanten Geschwindigkeit und das Niederlegen der metallischen Vorläufermittel auf das Substrat mit ein. Die metallischen Vorläufermittel werden nachher mit einem Ultraschallstrahl des Atomwasserstoffs bombardiert, um die metallischen nanoclusters zu bilden.