To provide a photosensitive paste that permits pattern formation with a high aspect ratio and a high accuracy and to provide a plasma display comprising said photosensitive paste, by using a photosensitive paste that comprises, as essential components, an inorganic particles and an organic component that contains a photosensitive compound with the difference between the average refractive index of the organic component and the average refractive index of the inorganic particles being 0.1 or less.

Om een fotogevoelig deeg dat patroonvorming met een hoge aspectverhouding en een hoge nauwkeurigheid en toelaat om een plasmavertoning te verstrekken bestaand uit bovengenoemd fotogevoelig deeg, door een fotogevoelig deeg te gebruiken dat bestaat uit, als essentiƫle componenten, anorganische deeltjes en een organische component te verstrekken die een fotogevoelige samenstelling met het verschil tussen gemiddelde r i van de organische component en gemiddelde r i van de anorganische deeltjes bevat die 0,1 of minder zijn.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Rheology modification of elastomers

> Elastic substantially linear ethylene polymers

> (none)

~ 00057