A positive photoresist composition having improved sensitivity and resolution, a method of making the composition, and a method for forming a pattern during semiconductor processing using the composition are disclosed. The photoresist composition includes: (i) a photosensitive material obtained by mixing a first photosensitive compound represented by formula (1) and a second photosensitive compound represented by formulae (2a) or (2b); (ii) a resin; and (iii) a solvent. The invention enables the formation of patterns with an exceptional profile due to a high degree of sensitivity and resolution of the photoresist composition.

Uma composição positiva do photoresist que melhoram a sensibilidade e a definição, um método de fazer a composição, e um método para dar forma a um teste padrão durante o semicondutor que processa usando a composição são divulgados. A composição do photoresist inclui: (i) um material photosensitive obtido misturando um primeiro composto photosensitive representado pela fórmula (1) e um segundo composto photosensitive representado pelas fórmulas (2a) ou (2b); (ii) uma resina; e (iii) um solvente. A invenção permite a formação dos testes padrões com um perfil excepcional devido a um grau elevado de sensibilidade e à definição da composição do photoresist.