A method and an apparatus for forming a layer on a substrate are disclosed. In accordance with one embodiment, a substrate (901) is placed into a chamber (30) that includes a coil (16) and a shield (14) wherein the coil and the shield are electrically isolated by an isolation/support member (32) having a first surface (321) that is substantially contiguous with a surface of the coil and having a second surface (322) that is substantially contiguous with a surface of the shield. A layer (1002, 1102) is then deposited onto the substrate (901).

Μια μέθοδος και μια συσκευή για ένα στρώμα σε ένα υπόστρωμα αποκαλύπτονται. Σύμφωνα με μια ενσωμάτωση, ένα υπόστρωμα (901) τοποθετείται σε μια αίθουσα (30) που περιλαμβάνει μια σπείρα (16) και μια ασπίδα (14) όπου η σπείρα και η ασπίδα απομονώνονται ηλεκτρικά από ένα μέλος απομόνωσης/υποστήριξης (32) που έχει μια πρώτη επιφάνεια (321) που είναι ουσιαστικά παρακείμενη με μια επιφάνεια της σπείρας και της κατοχής μιας δεύτερης επιφάνειας (322) που είναι ουσιαστικά παρακείμενη με μια επιφάνεια της ασπίδας. Ένα στρώμα (1002, 1102) κατατίθενται έπειτα επάνω στο υπόστρωμα (901).