The invention concerns a hairstyling composition, in a cosmetically acceptable medium: (1) at least a polymer (A) selected such that the film obtained by drying a mixture of said polymer (A) with ethanol or water, at room temperature and a relative moisture content of 50%, has a mechanical profile defined by at least (i) an ultimate elongation rate (.epsilon..sub.r) not less than 300%; (ii) a creep at 300 seconds (R.sub.300) not less than 45%; and (iii) when the creep at 300 seconds ranges between 45 and 60% the elongation is less than 1300%; (2) at least a non-ionic film forming polymer (B), different from polymer (A). The invention also concerns a hairstyling of hair-fixing method using said composition and its use for formulating hairstyling products such as lacquers, sprays or foams, for hairstyling or hair-fixing.

De uitvinding betreft een hairstyling samenstelling, in een cosmetically aanvaardbaar middel: (1) minstens selecteerde een polymeer (A) dusdanig dat de film die door een mengsel van bovengenoemd polymeer (A) met ethylalcohol of water, bij kamertemperatuur en een relatieve vochtigheidsinhoud wordt verkregen van 50% te drogen, een mechanisch profiel heeft dat door minstens (i) een uiteindelijk verlengingstarief (epsilon..sub.r) wordt bepaald niet minder dan 300%; (ii) een kruipen bij 300 seconden (R.sub.300) niet minder dan 45%; en (iii) wanneer het kruipen bij 300 secondenwaaiers tussen 45 en 60% de verlenging minder dan 1300% is; (2) minstens een niet-ionische film die polymeer (B) vormt, verschillend van polymeer (A). De uitvinding betreft ook het hairstyling van haar-bevestigende methode gebruikend bovengenoemde samenstelling en zijn gebruik voor het formuleren van hairstyling producten zoals lak, nevels of schuim, voor het hairstyling of haar-bevestigt.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Process for limiting the penetration into the skin and/or the keratinous fibres of an active cosmetic and/or pharmaceutical agent

> Method for forming a patterned semiconductor film

> (none)

~ 00055