In a partially formed liquid crystal display device, a window definition layer defines an etching endpoint detection window over a dummy pattern formed on the substrate. The window definition layer also defines an etch window over a real pattern formed on the substrate. The real pattern and the dummy pattern have the same thickness. During an etching process, a reactant from the etching step is monitored to determine when to stop the etching process.

En un dispositivo parcialmente formado del indicador de cristal líquido, una capa de la definición de la ventana define una ventana de la detección de la punto final de la aguafuerte sobre un patrón simulado formado en el substrato. La capa de la definición de la ventana también define una ventana del grabado de pistas sobre un patrón verdadero formado en el substrato. El patrón verdadero y el patrón simulado tienen el mismo grueso. Durante un proceso de la aguafuerte, un reactivo del paso de la aguafuerte se supervisa para determinarse cuando parar el proceso de la aguafuerte.