An image-forming apparatus for forming an image by electrically charging a photosensitive material, forming an electrostatic image through the exposure to light and developing the electrostatic image, wherein the main charged potential, Vo, of the photosensitive material, the potential, Vr, of the exposed portion of the photosensitive material and the developing bias potential DB are so set as to satisfy the following formulas, V1.ltoreq..vertline.DB-Vr.vertline..ltoreq.V2 (1) V3.ltoreq..vertline.Vo-DB.vertline..ltoreq.300 (2). V1, V2 and V3 are parameters calculated from a developing characteristics curve obtained by plotting the image densities to a potential difference between the developing bias potential and the surface potential, 0 V, of the photosensitive material when the image is formed by changing the developing bias potential with the exposure amount being zero in a state where the potential on the surface of the photosensitive material is maintained at zero.

Ein Bild-bildenapparat für die Formung eines Bildes durch ein lichtempfindliches Material elektrisch aufladen, die Formung eines elektrostatischen Bildes durch die Aussetzung zum Licht und das Entwickeln des elektrostatischen Bildes, worin das belastete Hauptpotential, Vl, des lichtempfindlichen Materials, das Potential, Vr, des herausgestellten Teils des lichtempfindlichen Materials und das sich entwickelnde schräge Potential DB sind, also Satz hinsichtlich die folgenden Formeln erfüllen, V1.ltoreq..vertline.DB-Vr.vertline..ltoreq.V2 (1) V3.ltoreq..vertline.Vo-DB.vertline..ltoreq.300 (2). V1, V2 und V3 sind die Parameter, die von einer sich entwickelnden Kennlinie errechnet werden, die indem sie die Bilddichten zu einem möglichen Unterschied zwischen dem sich entwickelnden schrägen Potential und dem Oberflächenpotential, 0 V, des lichtempfindlichen Materials erreicht wird, plotten, wenn das Bild gebildet wird, indem man das sich entwickelnde schräge Potential mit der Belichtung Menge ändert, die in einem Zustand null ist, in dem das Potential auf der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials bei null beibehalten wird.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Method for preparing a supported catalyst system and its use in a polymerization process

> Monopulse array radar with single difference beam for simultaneous azimuth and elevation angle determination

> (none)

~ 00052