A substrate processing apparatus includes a plurality of evacuable treatment chambers connected to one another via an evacuable common chamber, and the common chamber is provided with means for transporting a substrate between each treatment chamber. More specifically, a substrate processing apparatus includes a plurality of evacuable treatment chambers, at least one of said treatment chambers having a film formation function through a vapor phase reaction therein, at least one of said treatment chambers having an annealing function with light irradiation and at least one of said treatment chambers having a heating function therein. The apparatus also has a common chamber through which said plurality of evacuable treatment chambers are connected to one another, and a transportation means provided in said common chamber for transporting a substrate between each treatment chamber.

Un substrato que procesa el aparato incluye una pluralidad de compartimientos evacuables del tratamiento conectados con uno otro vía un compartimiento común evacuable, y el compartimiento común se proporciona los medios para transportar un substrato entre cada compartimiento del tratamiento. Más específicamente, un substrato que procesa el aparato incluye una pluralidad de compartimientos evacuables del tratamiento, por lo menos una de los compartimientos dichos del tratamiento que tienen una función de la formación de la película con una reacción de la fase del vapor en esto, por lo menos uno de los compartimientos dichos del tratamiento que tienen una función del recocido con la irradiación ligera y por lo menos uno de los compartimientos dichos del tratamiento que tienen una función de calefacción en esto. El aparato también tiene un compartimiento común a través de el cual la pluralidad dicha de compartimientos evacuables del tratamiento esté conectada con uno otro, y medios de un transporte proporcionados en el compartimiento común dicho para transportar un substrato entre cada compartimiento del tratamiento.