The present invention provides for a method and an apparatus for running metrology standard wafer routes for calibrating metrology data. A processing order for a run of semiconductor devices is determined. A metrology route based upon the processing order is determined. A metrology standard device is routed through the metrology route. Measurement data relating to the metrology standard device being routed though the metrology route is acquired. Metrology data processing upon the acquired measurement data is performed.

Присытствыющий вымысел обеспечивает для метода и прибора для трасс вафли идущей метрологии стандартных для калибрируя данных по метрологии. Обусловлен обрабатывая заказ для бега прибора на полупроводниках. Обусловлена трасса метрологии основанная на обрабатывая заказе. Приспособление метрологии стандартное направлено через трассу метрологии. Данные по измерения relating to будучи направлянным приспособление метрологии стандартное хотя трасса метрологии приобретена. Ввод информации метрологии на приобретенных данных по измерения выполнен.