A step and scan exposure system that is equipped with a plurality of attenuator blades for achieving exposure control in a photolithographic scanner is described. In the exposure system, at least two attenuator blades each equipped with at least three attenuators are utilized for producing an attenuated optical beam from an optical source such as from a mercury lamp. By using a suitable number of attenuator blades and a suitable number of attenuators in each blade, any combination of light transmission attenuated can be provided. For instance, when three attenuators are provided in each of three attenuator blades, a light transmission can be controlled between 10% and 90% at 10% increment between each two adjacent attenuators. By using the present invention novel exposure system with the multiple number of attenuator blades, the throughput of a photolithographic process is not significantly sacrificed since the scanning speed of the wafer stage need not be significantly reduced in order to produce the desirable exposure.

Ein Schritt und ein Scan-Belichtung System, das mit einer Mehrzahl der Abschwächerblätter für das Erzielen von von Belichtung Steuerung in einem photolithographic Scanner ausgerüstet wird, wird beschrieben. Im Belichtung System mindestens werden zwei Abschwächerblätter jedes ausgerüstet mit mindestens drei Abschwächern für das Produzieren eines verminderten optischen Lichtstrahls aus einer optischen Quelle wie von einer Quecksilberlampe verwendet. Vom Verwenden einer verwendbaren Anzahl von Abschwächerblättern und der verwendbaren Anzahl von Abschwächern in jedem Blatt, kann jede mögliche Kombination des hellen Getriebes vermindert zur Verfügung gestellt werden. Zum Beispiel wenn drei Abschwächer in jedem von drei Abschwächerblättern zur Verfügung gestellt werden, kann ein helles Getriebe zwischen 10% und 90% bei der 10% Stufensprung zwischen jeden zwei angrenzenden Abschwächern kontrolliert sein. Indem man das anwesende Erfindungroman-Belichtung System mit der mehrfachen Zahl Abschwächerblättern verwendet, wird der Durchsatz eines photolithographic Prozesses nicht erheblich geopfert, da die Abtastgeschwindigkeit des Oblatestadiums nicht, braucht erheblich verringert zu werden, um die wünschenswerte Belichtung zu produzieren.