A composition for forming a radiation absorbing coating which comprises an organic solvent, a radiation absorbing polymer or a radiation absorbing material dissolved therein and a crosslinking agent having blocked isocyanate groups. Since the isocyanate groups of the crosslinking agent have been blocked, the composition containing the crosslinking agent has excellent storage stability. When the composition applied to a substrate and then baked, crosslinking proceeds to give an antireflective coating, which does not intermix with a resist layer to be formed thereon by coating and is free from diffusion of a photo-generated acid thereinto from the resist layer. As a result, a resist image free from footing or scum can be formed.

Uma composição para dar forma a revestir absorvendo da radiação que compreende um solvente orgânico, um polímero absorvente da radiação ou um material absorvente da radiação dissolvidos nisso e um agente crosslinking que obstrui grupos do isocyanate. Desde que os grupos do isocyanate do agente crosslinking foram obstruídos, a composição que contem o agente crosslinking tem a estabilidade excelente do armazenamento. Quando a composição aplicada a uma carcaça e cozida então, crosslinking proseguir dar um revestimento antireflective, que não se misture com uma camada resistir a ser dada forma thereon revestindo e se esteja livre da difusão de um thereinto ácido foto-gerado da camada resistir. Em conseqüência, uma imagem resistir livre do fundamento ou do scum pode ser dada forma.