It is an object of the present invention to provide a negative photoresist composition for lithography, using short-wavelength light such as ArF excimer laser beam as a light source. The negative photoresist composition of the present invention is a negative photoresist composition comprising at least a polymer having a unit represented by the general formula (1) ##STR1## a crosslinking agent and a photo-acid generating agent, and the crosslinking agent is capable of crosslinking the polymer in the presence of an acid catalyst, whereby the polymer is insolubilized in a developer. Since the negative resist composition of the present invention is insolubilized in the developer by an action of an acid produced from the photo-acid generating agent at the exposed portion, a negative pattern can be obtained. Since the polymer has not a benzene ring, unlike a base polymer of a conventional negative resist, the polymer has high transparency to ArF excimer laser beam and also has high etching resistance because of its bridged alicyclic group.

Είναι ένα αντικείμενο της παρούσας εφεύρεσης για να παρέχει μια αρνητική photoresist σύνθεση για τη λιθογραφία, που χρησιμοποιεί το short-wavelength φως όπως excimer ArF η ακτίνα λέιζερ ως πηγή φωτός. Η αρνητική photoresist σύνθεση της παρούσας εφεύρεσης είναι μια αρνητική photoresist σύνθεση που περιλαμβάνει τουλάχιστον ένα πολυμερές σώμα που έχει μια μονάδα αντιπροσωπευμένη από το γενικό τύπο (1) ## STR1 ## έναν διασυνδέοντας πράκτορα και έναν φωτογραφία-όξινο παραγωγικό πράκτορα, και ο διασυνδέοντας πράκτορας είναι σε θέση το πολυμερές σώμα παρουσία ενός όξινου καταλύτη, με το οποίο το πολυμερές σώμα είναι insolubilized σε έναν υπεύθυνο για την ανάπτυξη. Δεδομένου ότι ο αρνητικός αντιστέκεται η σύνθεση της παρούσας εφεύρεσης insolubilized στον υπεύθυνο για την ανάπτυξη από μια δράση ενός οξέος που παράγεται από το φωτογραφία-όξινο παραγωγικό πράκτορα στην εκτεθειμένη μερίδα, ένα αρνητικό σχέδιο μπορεί να ληφθεί. Δεδομένου ότι το πολυμερές σώμα δεν έχει ένα δαχτυλίδι βενζολίου, αντίθετα από τη βάση ένα πολυμερές σώμα συμβατικού ενός αρνητικού αντιστέκεται, το πολυμερές σώμα έχει την υψηλή διαφάνεια excimer ArF στην ακτίνα λέιζερ και έχει επίσης την υψηλή αντίσταση χαρακτικής λόγω της γεφυρωμένης αλεικυκλικής ομάδας του.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Catheter with multilayer tube

> Polymerization catalysts

> (none)

~ 00049