A method for the production of silicon oxide particles includes the pyrolysis of a molecular stream with a silicon compound precursor, an oxygen source and a radiation absorbing gas. The pyrolysis is driven by a light beam such as an infrared laser beam. The method can be used in the production of nanoscale particles including highly uniform nanoscale particles.

Une méthode pour la production des particules d'oxyde de silicium inclut la pyrolyse d'un jet moléculaire avec un précurseur de composé de silicium, une source de l'oxygène et un gaz absorbant de rayonnement. La pyrolyse est conduite par un faisceau lumineux tel qu'un rayon laser infrarouge. La méthode peut être employée dans la production des particules de nanoscale comprenant les particules fortement uniformes de nanoscale.