The instant invention is directed to a process for selectively removing detrital material from boro-aluminosilicate selected from EUO, NES and intergrown mixtures of EUO and NES boro-aluminosilicate topology zeolites having a Si/M ratio of greater than about 50, comprising treating said boro-aluminosilicate with a base for a time and at a temperature sufficient to remove said detrital material from said boro-aluminosilicate wherein the concentration of said base is less than about 0.5 normal. Base concentrations in excess of this level may cause the removal of framework components leading to subsequent structural degradation.

Η στιγμιαία εφεύρεση κατευθύνεται σε μια διαδικασία για επιλεκτικά το detrital υλικό από το Boro -Boro-aluminosilicate που επιλέγεται από EUO, NES και intergrown τα μίγματα zeolites τοπολογίας EUO και NES Boro -Boro-aluminosilicate που έχουν μια αναλογία Si/M μεγαλύτερου από περίπου 50, περιλαμβάνοντας θεραπεύοντας τον εν λόγω Boro -Boro-aluminosilicate με μια βάση για έναν χρόνο και σε μια θερμοκρασία επαρκή για να αφαιρέσει το εν λόγω detrital υλικό από τον εν λόγω Boro -Boro-aluminosilicate όπου η συγκέντρωση της εν λόγω βάσης είναι λιγότερο από περίπου 0,5 κανονικό. Οι συγκεντρώσεις βάσεων παραπάνω από αυτό το επίπεδο μπορούν να προκαλέσουν την αφαίρεση των τμημάτων πλαισίου που οδηγούν στην επόμενη δομική υποβάθμιση.