The present invention beneficially provides an improved method and apparatus for designing submicron integrated circuits. A tag identifier is provided to an integrated circuit (IC) design. The tag identifier defines a set of properties for edge fragments. Edge fragments are tagged if they have the set of properties defined by the tag identifier. For instance, tag identifiers may define edge fragments that make up line ends or comers, or tag identifiers may define edge fragments that have predetermined edge placement errors. In various embodiments, functions can be performed on the tagged edge fragments. For instance, rule-based optical proximity correction (OPC) or model-based OPC can be performed on the tagged edge fragments. Other functions may mark tagged edge fragments in a visual display of the IC design, display the number of edge fragments having particular tags in a histogram, or identify particularly complex and error prone regions in the IC design.

Η παρούσα εφεύρεση παρέχει ευεργετικά μια βελτιωμένες μέθοδο και μια συσκευή για submicron τα ολοκληρωμένα κυκλώματα. Ένα προσδιοριστικό ετικεττών παρέχεται σε ένα σχέδιο ολοκληρωμένων κυκλωμάτων (IC). Το προσδιοριστικό ετικεττών καθορίζει ένα σύνολο ιδιοτήτων για τα τεμάχια ακρών. Τα τεμάχια ακρών κολλιούνται εάν έχουν το σύνολο ιδιοτήτων που καθορίζονται από το προσδιοριστικό ετικεττών. Παραδείγματος χάριν, τα προσδιοριστικά ετικεττών μπορούν να καθορίσουν τα τεμάχια ακρών που αποτελούν τις άκρες ή τους ελθόντες γραμμών, ή τα προσδιοριστικά ετικεττών μπορούν να καθορίσουν τα τεμάχια ακρών που έχουν προκαθορίσει τα λάθη τοποθέτησης ακρών. Στις διάφορες ενσωματώσεις, οι λειτουργίες μπορούν να εκτελεσθούν στα κολλημένα τεμάχια ακρών. Παραδείγματος χάριν, η βασισμένη στους κανόνες οπτική διόρθωση εγγύτητας (OPC) ή το πρότυπος-βασισμένο OPC μπορεί να εκτελεσθεί στα κολλημένα τεμάχια ακρών. Αλλες λειτουργίες μπορούν να χαρακτηρίσουν τα κολλημένα τεμάχια ακρών σε μια οπτική επίδειξη του σχεδίου ολοκληρωμένου κυκλώματος, να επιδείξουν τον αριθμό τεμαχίων ακρών που έχουν τις ιδιαίτερες ετικέττες σε ένα ιστόγραμμο, ή να προσδιορίσουν επιρρεπείς περιοχές τις ιδιαίτερα σύνθετες και λάθους στο σχέδιο ολοκληρωμένου κυκλώματος.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Capturing an evolving wafer fabrication method and system

> Plasma display panel

> (none)

~ 00048