An ozone processing apparatus for a semiconductor processing system includes an ozone generating unit and a reforming processing unit connected to each other through a connection piping section. The ozone generating unit includes an ozone generator and a pressure regulator connected to each other through a piping line. The connection piping section has a double-pipe structure consisting of an inner pipe and an outer pipe. The piping line and the inner pipe are made of a fluorocarbon resin. A branch line branches from the middle of the piping line, and is connected to a factory exhaust passageway. The branch line is provided with a flowmeter and an ozone densitometer. A controller is arranged to control the ozone generator with reference to the value of ozone concentration measured by the densitometer.

Un ozono que procesa el aparato para un sistema de proceso del semiconductor incluye un ozono que genera la unidad y una unidad de proceso que reforma conectada el uno al otro a través de una sección aflautada de la conexión. El ozono que genera la unidad incluye un generador del ozono y un regulador de presión conectados el uno al otro a través de una línea aflautada. La sección aflautada de la conexión tiene una estructura de la doble-pipa el consistir en de una pipa interna y de una pipa externa. La línea aflautada y la pipa interna se hacen de una resina del fluorocarbon. Una línea de rama ramifica del centro de la línea aflautada, y está conectada con un callejón del extractor de la fábrica. La línea de rama se proporciona un flujómetro y un densitómetro del ozono. Un regulador se arregla para controlar el generador del ozono referente al valor de la concentración del ozono medido por el densitómetro.