A process has been described which makes use of polysilicon beam as the structural material instead of single crystal silicon for the fabrication of MEMS sensors/actuators. The invention describes the process for fabricating suspended polysilicon beams by using deep trenches etched into silicon substrate as a kind of a mould to form polysilicon beams. The polysilicon beams are subsequently released by isotropically etching away the silicon surrounding the polysilicon beams. This results in free standing polysilicon members, which form the MEMS structures. In addition to the general process, three approaches to making electrical contact to the beams are presented.

Een proces is beschreven dat gebruik maakt polysilicon van straal als structureel materiaal in plaats van enig kristalsilicium voor de vervaardiging van sensoren MEMS/actuators. De uitvinding beschrijft het proces om opgeschorte polysilicon stralen te vervaardigen door diepe geulen te gebruiken die in siliciumsubstraat als een soort een vorm worden geëtst polysilicon stralen te vormen. De polysilicon stralen worden later door weg isotropically het silicium vrijgegeven te etsen dat de polysilicon stralen omringt. Dit resulteert in vrije bevindende polysilicon leden, wat de structuren MEMS vormen. Naast het algemene proces, worden drie benaderingen van het opnemen van elektrocontact aan de stralen voorgesteld.