A process for producing a high-purity Mn material comprising the steps of premelting crude Mn at 1250-1500.degree. C. and vacuum distilling the melt at 1100-1500.degree. C. The degree of vacuum during the vacuum distillation ranges from 5.times.10.sup.-6 torr to 10 torrs. A crucible for use in the vacuum distillation is a double crucible, which consists of inner and outer crucibles, and a carbon felt packed in the space therebetween. A high-purity Mn material for thin film deposition which contains a total of not more than 100 ppm impurity metallic elements, not more than 200 ppm oxygen, not more than 50 ppm nitrogen, not more than 50 ppm S, and not more than 100 ppm C.

Un proceso para producir un material de gran pureza del manganeso que abarca los pasos de premelting el manganeso crudo en 1250-1500.degree. C. y vacío que destilan el derretimiento en 1100-1500.degree. C. El grado del vacío durante la destilación de vacío se extiende de los torr 5.times.10.sup.-6 a 10 torrs. Un crisol para el uso en la destilación de vacío es un crisol doble, que consiste en los crisoles internos y externos, y un fieltro del carbón embalado en el espacio therebetween. Un material de gran pureza del manganeso para la deposición de la película fina que contiene un total de no más que 100 elementos metálicos de la impureza del PPM, el oxígeno no más de que 200 PPM, nitrógeno no más de que 50 PPM, no más que 50 PPM S, y no más que 100 PPM C.