A method and apparatus for performing an operation on hierarchically described integrated circuit layouts such that the original hierarchy of the layout is maintained is provided. The method comprises providing a hierarchically described layout as a first input and providing a particular set of operating criteria corresponding to the operation to be performed as a second input. The mask operation, which may include operations such as OPC and logical operations such as NOT and OR, is then performed on the layout in accordance with the particular set of operating criteria. A first program data comprising hierarchically configured correction data corresponding to the hierarchically described layout is then generated in response to the layout operation such that if the first program data were applied to the flattened layout an output comprising data representative of the result of performing the operation on the layout would be generated. As the first program data is maintained in a true hierarchical format, layouts which are operated upon in accordance with this method are able to be processed through conventional design rule checkers. Further, this method is capable of being applied to all types of layouts including light and dark field designs and phase shifting layouts.

Un metodo e un apparecchio per realizzare un funzionamento sulle disposizioni gerarchico descritte del circuito integrato tali che la gerarchia originale della disposizione è effettuata è fornito. Il metodo contiene fornire una disposizione gerarchico descritta come primo input e fornire un insieme particolare dei test di verifica di funzionamento che corrispondono al funzionamento da effettuare come secondo input. Il funzionamento della mascherina, cui può includere i funzionamenti quale OPC ed i funzionamenti logici come NON ed O, allora è realizzato sulla disposizione in conformità con l'insieme particolare dei test di verifica di funzionamento. I primi dati di programma che contengono i dati gerarchico configurati di correzione che corrispondono alla disposizione gerarchico descritta allora sono generati in risposta al funzionamento della disposizione tali che se i primi dati di programma fossero applicati alla disposizione appiattita un'uscita che contiene il rappresentante di dati il risultato di effettuazione il funzionamento sulla disposizione sarebbe generato. Poichè i primi dati di programma sono effettuati in una vera disposizione gerarchica, le disposizioni che sono funzionate su in conformità con questo metodo possono essere proceduto attraverso gli ispettori convenzionali di regola di disegno. Più ulteriormente, questo metodo è capace di applicazione a tutti i tipi di disposizioni compreso i disegni del campo chiaro e scuro e le disposizioni di sfasamento.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Selection of evaluation point locations based on proximity effects model amplitudes for correcting proximity effects in a fabrication layout

> Method for locally refining a mesh

> (none)

~ 00044