The reflectivity of multilayered EUV mirrors tuned for 11-16 nm, for which
the two-component Mo/Be and Mo/Si multilayered systems are commonly used,
is enhanced by incorporating additional elements and their compounds
mainly from period 5 of the periodic table. In addition, the reflectivity
performance of the multilayer stacks is further enhanced by a numerical
global optimization procedure by which the layer thicknesses are varied
for optimum performance in, contradistinction to the constant layer
thickness--i.e. constant partition ration--multilayer stacks commonly
designed and fabricated hitherto. By incorporating additional materials
with differing complex refractive indices in various regions of the stack,
or by wholly replacing one of the components (typically Mo), peak
reflectivity enhancements of up to 5% for a single reflector are achieved,
compared to a standard unoptimized stack. The additional materials used
are: Rb, RbCl, Sr, Y, Zr, Ru, Rh, Tc, Pd, Nb and Be. Protective capping
layers of B, Ru, Rh, C, Si3N4, SiC, are disclosed.
La reflectividad de los espejos de varias capas de EUV templó para 11-16 nm, para el cual el dos-componente Mo/Be y los sistemas de varias capas de Mo/Si se utilizan comúnmente, es realzada incorporando elementos adicionales y sus compuestos principalmente a partir del período 5 de la tabla periódica. Además, el funcionamiento de la reflectividad de los apilados de múltiples capas es realzado más a fondo por un procedimiento global numérico de la optimización por en el cual los gruesos de la capa sean variados para el funcionamiento óptimo, el contradistinction al grueso constante de la capa -- es decir ración constante de la partición -- los apilados de múltiples capas diseñados y fabricados comúnmente hasta ahora. Incorporando los materiales adicionales con índices refractivos complejos que diferencian en las varias regiones del apilado, o enteramente substituyendo uno de los componentes (típicamente MES), los realces máximos de la reflectividad de el hasta 5% para un solo reflector son alcanzados, comparado a un estándar unoptimized el apilado. Los materiales adicionales usados son: Se divulga el rb, RbCl, sr, Y, zr, Ru, derecho, Tc, paladio, NOTA y está las capas que capsulan protectoras de B, Ru, derecho, C, Si3N4, SiC.
