A method for manufacturing a photomask of cylindrical capacitor arrays surrounded by a corrugated protection trench is provided. First, a capacitor array layout is generated, next, the capacitor array patterns are copied to protection trench area with exact the same shape and pitch, finally, the protection trench is finished by filling connecting patterns between gaps of the capacitor arrays. A corrugated close loop protection trench pattern can hence be developed upon photoresist through the exposing and is developing of a photo stepper.

Une méthode pour fabriquer un photomask des rangées cylindrique de condensateur entouré par un fossé ondulé de protection est fournie. D'abord, une disposition de rangée de condensateur est produite, prochain, les modèles de rangée de condensateur sont copiés au secteur de fossé de protection avec exact la même forme et le lancement, en conclusion, le fossé de protection est fini en remplissant modèles se reliants entre les lacunes des rangées de condensateur. Un modèle étroit ondulé de fossé de protection de boucle peut par conséquent être développé sur le vernis photosensible par exposer et est se développer d'une photo de pas.

 
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