A method and apparatus are provided for controlling the use of chemical materials in a semiconductor factory. The control is based upon the relationship among certain important dates relative to the useful life of the chemical materials used in the semiconductor manufacturing process. These dates include the current date and the expiration date, a critical date and a warning date for each chemical used on a particular assembly line. The expiration date is based upon a date beyond which the chemicals are not to be used in the semiconductor factory process. The critical date is usually no more than 3-4 days before the expiration date. Certain chemicals need more careful monitoring during this critical period. The warning date, usually a week before the expiration date, is used to alert the relevant engineering and production staff that a period of close attention on a particular production run is required. There are four major decision points in the method that is implemented by the apparatus.

Un metodo e un apparecchio sono forniti per il controllo dell'uso dei materiali chimici in una fabbrica a semiconduttore. Il controllo è basato sul rapporto fra determinate date importanti riguardante la durata utile dei materiali chimici utilizzati nel processo di manufacturing a semiconduttore. Queste date includono la data corrente e la data di scadenza, una data critica e una data d'avvertimento per ogni prodotto chimico usato su una catena di montaggio particolare. La data di scadenza è basata su una data où i prodotti chimici non devono essere usati nel processo della fabbrica a semiconduttore. La data critica è solitamente nient'altro di 3-4 giorni prima della data di scadenza. Determinati prodotti chimici hanno bisogno del controllo più attento durante questo periodo critico. La data d'avvertimento, solitamente una settimana prima della data di scadenza, è usata per avvisare il personale relativo di produzione e di ingegneria che un periodo di attenzione particolare su un funzionamento di produzione particolare è richiesto. Ci sono quattro punti di decisione importanti nel metodo che è effettuato dall'apparecchio.

 
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