A photoresist stripper composition is formed of a mixture of acetone, .gamma.-butyrolactone, and ester solvent. A photoresist stripping method includes spraying the photoresist stripper composition over a substrate while rotating the substrate at a relatively low speed, so as to strip photoresist from the substrate. The rotation of the substrate is stopped for a short period of time, and thereafter the photoresist stripper composition is again sprayed over the substrate while rotating the substrate at a relatively high speed. Then, the substrate is rinsed with pure water.

Une composition en décolleur de vernis photosensible est constituée d'un mélange d'acétone, de gamma.-butyrolactone, et de dissolvant d'ester. Une méthode dépouillante de vernis photosensible inclut pulvériser la composition en décolleur de vernis photosensible au-dessus d'un substrat tout en tournant le substrat relativement à un à vitesse réduite, afin de dépouiller le vernis photosensible du substrat. La rotation du substrat est arrêtée pendant une période courte, et ensuite la composition en décolleur de vernis photosensible est de nouveau pulvérisée au-dessus du substrat tout en tournant le substrat relativement à un à grande vitesse. Puis, le substrat est rincé avec de l'eau pur.