A method and apparatus for endpoint detection for the stripping of a particular material, such as photo-resist material, from a substrate surface. A beam of light is projected onto the substrate surface and the fluoresced and/or reflected light intensity at a particular wavelength band is measured by a light detector. The light intensity is converted to a numerical value and transmitted electronically to a control mechanism which determines the proper disposition of the substrate. The control mechanism controls the cessation of the stripping process and may control a substrate-handling device which sequentially transfers substrates to and from a stripping chamber.

Een methode en een apparaat voor eindpuntopsporing voor het ontdoen van van een bepaald materiaal, zoals photo-resist materiaal, van een substraatoppervlakte. Een lichtstraal wordt ontworpen op de substraatoppervlakte en de gefluoresceerde en/of weerspiegelde lichtintensiteit bij een bepaalde golflengteband wordt gemeten door een lichte detector. De lichtintensiteit wordt omgezet in een numerieke waarde en aan een controlemechanisme elektronisch overgebracht dat de juiste regeling van het substraat bepaalt. Het controlemechanisme controleert de onderbreking van het het ontdoen van proces en kan een substraat-behandelend apparaat controleren dat opeenvolgend substraten naar en van een ontdoende van kamer overbrengt.