A structure and method of designing an integrated circuit includes generating at least one device shape, altering the device shape to comply with predetermined rules, forming a first hierarchical level abstraction around the device shape (where the first hierarchical level abstraction represents a perimeter of the device shape), preparing a first hierarchical level arrangement of first hierarchical level abstractions, altering the first hierarchical level arrangement to comply with the predetermined rules, forming a second hierarchical level abstraction around the first hierarchical level arrangement (where the second hierarchical level abstraction represents a perimeter of the first hierarchical level arrangement), preparing a second hierarchical level arrangement of second hierarchical level abstractions, and altering the second hierarchical level arrangement to comply with the predetermined rules.

Una estructura y un método de diseñar un circuito integrado incluye la generación por lo menos de una forma del dispositivo, alterando la forma del dispositivo para conformarse con las reglas predeterminadas, formando una primera abstracción llana jerárquica alrededor de la forma del dispositivo (donde la primera abstracción llana jerárquica representa un perímetro de la forma del dispositivo), preparando un primer arreglo llano jerárquico de las primeras abstracciones llanas jerárquicas, alterando el primer arreglo llano jerárquico para conformarse con las reglas predeterminadas, formando una segunda abstracción llana jerárquica alrededor del primer arreglo llano jerárquico (donde la segunda abstracción llana jerárquica representa un perímetro del primer arreglo llano jerárquico), preparando un segundo arreglo llano jerárquico de las segundas abstracciones llanas jerárquicas, y alterando el segundo arreglo llano jerárquico para conformarse con las reglas predeterminadas.