The present invention provides for a method and an apparatus for optimal wafer-by-wafer processing. Semiconductor devices are identified for wafer-by-wafer analysis. At least one value of a controlled variable in the wafer-by-wafer analysis is identified. A trajectory of recipes is created for the identified semiconductor devices. A feedback implementation of wafer-by-wafer control is performed using the trajectory of recipes upon the identified semiconductor devices. A feed-forward implementation of wafer-by-wafer control is performed using the trajectory of recipes upon the identified semiconductor devices.

De onderhavige uitvinding voorziet een methode en een apparaat voor optimale wafeltje-door-wafeltje verwerking. De apparaten van de halfgeleider worden geïdentificeerd voor wafeltje-door-wafeltje analyse. Minstens één waarde van een gecontroleerde variabele in de wafeltje-door-wafeltje analyse wordt geïdentificeerd. Een baan van recepten wordt gecreeerd voor de geïdentificeerde halfgeleiderapparaten. Een terugkoppelingsimplementatie van wafeltje-door-wafeltje controle wordt uitgevoerd gebruikend de baan van recepten op de geïdentificeerde halfgeleiderapparaten. Een feed-forward implementatie van wafeltje-door-wafeltje controle wordt uitgevoerd gebruikend de baan van recepten op de geïdentificeerde halfgeleiderapparaten.