In a method of manufacturing an aluminum oxide film using atomic layer deposition, alcohol is delivered as an oxygen source instead of water vapor into a reactor via a different delivery line from an aluminum source. Thus, the disclosed method can prevent degradation of an aluminum oxide thin film in uniform fashion by a chemical vapor deposition method that is parasitically generated. Also, an activation gas is delivered into the reactor at about the same time an aluminum source and an alcoholic gas is delivered. Therefore, the disclosed method can prevent reduction in the deposition rate and also prohibit degradation in an electrical property by impurity.

In een methode om een film die van het aluminiumoxyde te vervaardigen atoomlaagdeposito gebruikt, wordt de alcohol geleverd als zuurstofbron in plaats van waterdamp in een reactor via een verschillende leveringslijn uit een aluminiumbron. Aldus, kan de onthulde methode degradatie van een dunne film van het aluminiumoxyde op eenvormige manier door een methode van het chemische dampdeposito verhinderen die parasitically wordt geproduceerd. Ook, wordt een activeringsgas geleverd in de reactor in ongeveer de zelfde tijd een aluminiumbron en een alcoholisch gas wordt geleverd. Daarom kan de onthulde methode vermindering van het depositotarief verhinderen en ook degradatie in een elektrisch bezit belemmeren door onzuiverheid.