The system and method performs optical proximity correction on an integrated circuit (IC) mask design by initially performing optical proximity correction on a library of cells that are used to create the IC. The pre-tested cells are imported onto a mask design. All cells are placed a minimum distance apart to ensure that no proximity effects will occur between elements fully integrated in different cells. A one-dimensional optical proximity correction technique is performed on the mask design by performing proximity correction only on those components, e.g., lines, that are not fully integrated within one cell.

Het systeem en de methode voeren optische nabijheidscorrectie op een (IC) maskerontwerp van geïntegreerde schakelingen door optische nabijheidscorrectie op uit een bibliotheek van cellen aanvankelijk uit te voeren die worden gebruikt om IC te creëren. De voorbeproefde cellen worden ingevoerd op een maskerontwerp. Alle cellen worden een minimumafstand apart geplaatst om ervoor te zorgen dat geen nabijheidsgevolgen tussen elementen voorkomen zullen die volledig in verschillende cellen worden geïntegreerd. Een ééndimensionale optische techniek van de nabijheidscorrectie wordt uitgevoerd op het maskerontwerp door nabijheidscorrectie slechts op die componenten uit te voeren, b.v., lijnen, die niet volledig geïntegreerd binnen één cel zijn.