A method for the production of Gaussian intensity distribution in the beam profile of secondary radiation generated by non-linear optical processes, particularly frequency conversion and more particularly frequency doubling of a primary radiation beam. The non-linearly generated, secondary radiation beam is non-Gaussian in profile due to the walk-off effect and has a near field path near the non-linear optical material and a transition field path interconnecting the near field path with a remote, or far, field path. A Gaussian secondary beam profile of substantially circular cross-section is produced at a finite distance from the optical material by providing an optical system in the transition path which, taken as a whole, has no divergence altering or imaging effect on the secondary radiation beam.

Un método para la producción de la distribución gaussian de la intensidad en el perfil de la viga de la radiación secundaria generado por procesos, particularmente la conversión de frecuencia y más particularmente doblar ópticos no lineares de la frecuencia de una viga primaria de la radiación. La viga non-linearly generada, secundaria de la radiación es non-Gaussian en el perfil debido a camina -apagado efecto y tiene una trayectoria cercana del campo cerca del material óptico no linear y una trayectoria del campo de la transición que interconecta la trayectoria cercana del campo con un telecontrol, o lejos, trayectoria del campo. Un perfil secundario gaussian de la viga de la sección representativa substancialmente circular es producido en una distancia finita del material óptico proporcionando un sistema óptico en la trayectoria de la transición que, tomada en su totalidad, no tiene ninguna divergencia el alterarse o efecto de la proyección de imagen sobre la viga secundaria de la radiación.