A method for processing a semiconductor wafer or similar article includes the step of spinning the wafer and applying a fluid to a first side of the wafer, while it is spinning. The fluid flows radially outwardly in all directions, over the first side of the wafer, via centrifugal force. As the fluid flows off of the circumferential edge of the wafer, it is contained in an annular reservoir, so that the fluid also flows onto an outer annular area of the second side of the wafer. An opening allows fluid to flow out of the reservoir. The opening defines the location of a parting line beyond which the fluid will not travel on the second side of the wafer. An apparatus for processing a semiconductor wafer or similar article includes a reactor having a processing chamber formed by upper and lower rotors. The wafer is supported between the rotors. The rotors are rotated by a spin motor. A processing fluid is introduced onto the top or bottom surface of the wafer, or onto both surfaces, at a central location. The fluid flows outwardly uniformly and in all directions. A wafer support automatically lifts the wafer, so that it can be removed from the reactor by a robot, when the rotors separate from each other after processing.

Un metodo per l'elaborazione una cialda o dell'articolo simile a semiconduttore include il punto di filatura della cialda e di applicazione del liquido ad un primo lato della cialda, mentre sta filando. Il liquido entra radialmente esteriormente in tutti i sensi, sopra il primo lato della cialda, via forza centrifuga. Mentre le quantità di fluido fuori del bordo della circonferenza della cialda, esso è contenuta in un serbatoio anulare, di modo che il liquido inoltre fluisce su una zona anulare esterna del secondo lato della cialda. Un'apertura permette che il liquido esca dal serbatoio. L'apertura definisce la posizione di una linea di separazione oltre cui il liquido non viaggerà dal secondo lato della cialda. Un apparecchio per l'elaborazione una cialda o dell'articolo simile a semiconduttore include un reattore che fa costituire un alloggiamento d'elaborazione dai rotori superiori e più bassi. La cialda è sostenuta fra i rotori. I rotori sono ruotati da un motore di rotazione. Un liquido d'elaborazione è introdotto su di fondo o superiore della cialda, o su entrambe le superfici, ad una posizione centrale. Le quantità di fluido esteriormente uniformemente ed in tutti i sensi. Un supporto della cialda alza automaticamente la cialda, di modo che può essere rimosso dal reattore da un robot, quando i rotori a parte da a vicenda dopo l'elaborazione.