A polyorganosiloxane-based composition for film formation which gives a
film having low dielectric constant and high modulus of elasticity and
useful as an interlayer insulating film in semiconductor devices and the
like. The composition for film formation comprises: (A) a product of
hydrolysis and condensation obtained by hydrolyzing and condensing, in the
presence of an alkali catalyst, at least one member selected from the
group consisting of compounds (1) represented by R.sub.a
Si(OR.sup.1).sub.4-a (wherein R represents hydrogen, fluorine, or a
monovalent organic group; R.sup.1 represents a monovalent organic group;
and a Is an integer of 1 or 2), compounds (2) represented by
Si(OR.sup.2).sub.4 (wherein R.sup.2 represents a monovalent organic
group), and compounds (3) represented by R.sup.3.sub.b (R.sup.4 O).sub.3-b
Si--(R.sup.7).sub.d --Si(OR.sup.5).sub.3-c R.sup.6.sub.c [wherein R.sup.3
to R.sup.6 may be the same or different and each represent a monovalent
organic group; b and c may be the same or different and each are an
integer of 0 to 2; R.sup.7 represents oxygen, phenylene, or a group
represented by --(CH.sub.2).sub.n --, wherein n is an integer of 1 to 6;
and d is 0 or 1]; and (B) a product of hydrolysis and condensation
obtained by hydrolyzing and condensing, in the presence of an acid
catalyst, at least one member selected from the group consisting of the
compounds (1), (2), and (3).
Una composizione polyorganosiloxane-basata per formazione della pellicola che dà una pellicola che ha il costante dielettrico basso ed alto modulo di elasticità ed utile come pellicola isolante dello strato intermedio nei dispositivi a semiconduttore ed in simili. La composizione per formazione della pellicola contiene: (A) un prodotto di idrolisi e di condensazione ottenute idrolizzando e condensando, in presenza di un catalizzatore dell'alcali, almeno un membro scelto dai residui consistenti del gruppo (1) ha rappresentato da R.sub.a Si(OR.sup.1).sub.4-a (in cui la R rappresenta l'idrogeno, il fluoro, o un gruppo organico monovalente; R.sup.1 rappresenta un gruppo organico monovalente; e la a è un numero intero di 1 o 2), residui (2) rappresentati da Si(OR.sup.2).sub.4 (in cui R.sup.2 rappresenta un gruppo organico monovalente) e residui (3) rappresentati da R.sup.3.sub.b (silicone di R.sup.4 O).sub.3-b -- (R.sup.7).sub.d -- Si(OR.sup.5).sub.3-c R.sup.6.sub.c [ in cui R.sup.3 a R.sup.6 può essere lo stesso o differente e ciascuno rappresenti un gruppo organico monovalente; la b e la c possono essere la stessa o differente e ciascuno è un numero intero di 0 - 2; R.sup.7 rappresenta l'ossigeno, il fenilene, o -- un (CH.sub.2).sub.n vicino rappresentato gruppo --. in cui la n è un numero intero di 1 - 6; e la d è 0 o 1]; e (B) un prodotto di idrolisi e di condensazione ottenute idrolizzando e condensando, in presenza di un catalizzatore acido, almeno di un membro scelti dal gruppo che consiste dei residui (1), (2) e (3).
