Onium salts of substituted phenylmethylbenzene-sulfonate anions with iodonium or sulfonium cations are novel. A chemically amplified resist composition comprising the onium salt as a photoacid generator is suited for microfabrication, especially by deep UV lithography because of many advantages including improved resolution, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized defect after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development. ##STR1##

Les sels d'Onium des anions substitués de phenylmethylbenzene-sulfonate avec des cations d'iodonium ou de sulfonium sont roman. Chimiquement amplifié résistent à la composition comportant le sel d'onium pendant qu'un générateur de photoacid approprié au microfabrication, particulièrement par la lithographie UV profonde en raison de beaucoup d'avantages comprenant la résolution améliorée, la ligne réduite au minimum variation de largeur ou dégradation de forme même sur PED à long terme, le défaut réduit au minimum après avoir enduit, le développement et l'écaillement, et le profil amélioré de modèle après développement. ## du ## STR1