A polymer material is exposed to radiation of a type that changes some aspect of the polymer's radiation passing properties. The radiation that caused the property change is then contained by the material. The property change can be self-focusing or self-trapping light can be used. In that case, the same light that causes the photopolymerization is contained by the change in index of refraction that is caused by the polymerization.

Материал полимера подвергается действию к радиации типа изменяет некоторый аспект радиации полимера проходя свойства. Радиация причинила изменение свойства после этого содержится материалом. Изменение свойства может собственн-fokusirovat6 или свет собственн-zaputyvani4 можно использовать. В тот случай, такой же свет который причиняет photopolymerization содержится изменением в индексе рефракции которая причинена полимерностью.